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      充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用

      發(fā)布日期:2023-07-03      點(diǎn)擊:459

      充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用  充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用的好處

      充氮烤箱是一種常用的半導(dǎo)體器件制造工藝設(shè)備,它在半導(dǎo)體器件制造過程中起到保護(hù)和改善器件性能的作用。充氮烤箱的主要原理是通過在烤箱內(nèi)充入氮?dú)?,將氧氣排除,從而減少氧化反應(yīng)對(duì)器件的影響。在半導(dǎo)體器件制造的過程中,氮?dú)獾某淙肟梢杂行У乇Wo(hù)器件表面,防止氧化反應(yīng)的發(fā)生,提高器件的質(zhì)量和性能。

      充氮烤箱1.jpg

      充氮烤箱在半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用主要有以下幾個(gè)方面:

      1. 氧化反應(yīng)控制:充氮烤箱可以在器件制造過程中控制氧化反應(yīng)的程度和速率,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)氧化層的控制,保證器件的質(zhì)量和性能。

      2. 氮?dú)獗Wo(hù):充氮烤箱可以在烘烤和退火過程中提供氮?dú)猸h(huán)境,避免氧化反應(yīng)的發(fā)生,防止器件表面被氧化,保護(hù)器件的性能。

      3. 清潔作用:氮?dú)饩哂休^高的純凈度,可以在烤箱內(nèi)形成凈化的環(huán)境,有效地減少雜質(zhì)的污染,保證器件表面的潔凈度。

      4. 去除氣體殘留:充氮烤箱中的氮?dú)饪梢匝杆賹⒖鞠鋬?nèi)的氣體殘留物吹散,減少對(duì)器件質(zhì)量的影響。

      總之,充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造過程中具有重要的應(yīng)用價(jià)值,可以提高器件的質(zhì)量和性能,保證器件制造的可靠性。                               一、設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

      充氮烤箱也稱惰性氣氛保護(hù)烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體、芯片、新能源電池、光伏組件、LED光電、精密金屬、醫(yī)療器材、汽車零件、通訊設(shè)備、化工等工業(yè)之烘烤、干燥預(yù)熱回火、老化等用途。該工業(yè)充氮烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風(fēng)干燥箱,在加溫工作的同時(shí)充入氮?dú)?/span>適用高溫易氧化產(chǎn)品的烘烤加熱。

      二、設(shè)備特點(diǎn)

      1) 外采用SECC鋼板、精粉體烤漆處理;內(nèi)采用SUS不銹鋼;

      2) 全新耐高溫長軸馬達(dá);

      3) 渦輪風(fēng)扇;

      4) 硅膠迫緊(Sillcon packing);

      5) 超溫保護(hù)超負(fù)載自動(dòng)斷電系統(tǒng);

      6) 循環(huán)系統(tǒng)強(qiáng)制水平送風(fēng)循環(huán);

      7) 加熱系統(tǒng):PID+S.S.R;

      8) 溫控器:PID微電腦控制,全自動(dòng)恒溫,溫度迅速補(bǔ)償功能;

      9) 計(jì)時(shí)器:溫到計(jì)時(shí)時(shí)到斷電報(bào)警指示;

      10) 充氮裝置:氣體減壓閥,惰性氣體流量控制,通入流出箱內(nèi)管道。

      三、主要技術(shù)參數(shù):

      72L: 450×400×400(mm)

      RT+10℃~200℃ HE-N2-72II

      RT+15℃~300℃ HE-N2-72III

      RT+50℃~400℃ HE-N2-72IV

      100℃~500℃ HE-N2-72V

       

      125L: 500×500×500(mm)

      RT+10℃~200℃ HE-N2-125II

      RT+15℃~300℃ HE-N2-125III

      RT+50℃~400℃ HE-N2-125IV

      100℃~500℃ HE-N2-125V

       

      150L: 500×500×600(mm)

      RT+10℃~200℃ HE-N2-150II

      RT+15℃~300℃ HE-N2-150III

      RT+50℃~400℃ HE-N2-150IV

      100℃~500℃ HE-N2-150V

       

      216L: 600×600×600(mm)

      RT+10℃~200℃ HE-N2-216II

      RT+15℃~300℃ HE-N2-216III

      RT+50℃~400℃ HE-N2-216IV

      100℃~500℃ HE-N2-216V

      控制精度: ±0.5℃(恒定時(shí))

      顯示精度: 0.1

      溫度波動(dòng)度: ±1.0℃(恒定時(shí))

      控制方式: 按鍵式控制或PLC程式觸摸屏控制

      氮?dú)饬髁浚?/span> 10L/min~60L/min

      送風(fēng)方式: 內(nèi)部熱風(fēng)循環(huán)

      玻璃視窗: 300℃以上機(jī)型無視窗

      隔層架: 標(biāo)配2個(gè)

      使用電源: AC單相 三線 220V 50/60HZ  AC三相 五線 380V 50/60HZ

      保護(hù)裝置: 超溫保護(hù)、缺相保護(hù)、接地保護(hù)、過載保護(hù)、快速保險(xiǎn)、斷路開關(guān)等

      充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造中的應(yīng)用有許多好處,包括:1. 氧化反應(yīng)控制:充氮烤箱可以控制氧化反應(yīng)的程度和速率,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)氧化層的控制。這對(duì)于制造器件的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。

      2. 氮?dú)獗Wo(hù):充氮烤箱提供氮?dú)猸h(huán)境,避免氧化反應(yīng)的發(fā)生,保護(hù)器件表面免受氧化的影響。這有助于提高器件的可靠性和長期穩(wěn)定性。

      3. 清潔作用:充氮烤箱中的氮?dú)饩哂休^高的純凈度,可以形成凈化的環(huán)境。這有助于減少雜質(zhì)的污染,保證器件表面的潔凈度。

      4. 熱量均勻分布:充氮烤箱能夠提供均勻的熱量分布,保證器件在烘烤和退火過程中的均勻加熱。這有助于避免熱應(yīng)力和溫度梯度對(duì)器件的影響。

      5. 去除氣體殘留:充氮烤箱中的氮?dú)饪梢钥焖賹⒖鞠鋬?nèi)的氣體殘留物吹散,減少對(duì)器件質(zhì)量的影響。

      綜上所述,充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造中的應(yīng)用有助于提高器件的質(zhì)量和性能,保證制造過程的可靠性,并且有利于減少污染和熱應(yīng)力對(duì)器件的影響。

       


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